真空镀膜的应用

真空镀膜技术是真空应用技术的一个重要分支。已广泛应用于光学、电气工程、能源开发、理化仪器、工程机械、包装、民用产品、表面科学和科学研究等领域。用于真空镀膜的方法主要有蒸发镀、溅射镀、离子镀、束沉积镀和分子束外延，还有化学气相沉积。如果真空镀膜的目的是改变材料表面的物理和化学性能，技术权利是真空表面处理技术的重要组成部分。下面我来介绍一下真空镀膜的主要应用方面。

在光学方面，一块光学玻璃或石英表面涂有一层或多层不同物质的薄膜。这些薄膜可以变成高反射或非反射（即抗反射涂层），或用作任何材料的反射或透射材料所需的比例。它可以制成吸收特定波长并透射另一波长的滤光片。从大口径天文望远镜和各种激光器，到新建筑使用的茉莉花大窗户的镀膜，都需要真空镀膜技术。减反射涂层广泛用于摄影和各种激光，新建筑的大窗户需要使用增透膜。防反射涂层广泛用于照相机和电视摄像机的镜头。

真空镀膜在电子产品中占有重要地位。各种尺寸的继承电路。包括存储器、运算单元、指令逻辑元件等，必须使用导电膜、绝缘膜、保护膜。铬膜用作制备电路的掩模。

在显示器件方面，视频头的透明导电膜、高密度录像带、平板显示器件、摄像管的导光膜和显像管荧光屏的铝衬层是 也采用真空镀膜技术制备。在成分上，在真空中蒸发镍和铬，铬或金属陶瓷可制成电阻器，在塑料上蒸发铝、一氧化硅、二氧化钛等可制成电容器，蒸发硒可制成复印机鼓，蒸发钛钡酸可制成电阻器。空气蒸发还可用于制造用于惯性约束反应的超导薄膜和磁珠涂层。